精机事业

创建智能社会

集成电路芯片和高分辨率平板显示器是推动IoT和AI进步的关键。尼康从事这些部件的电路图曝光制造系统的研发和生产,助力智能社会的创建。

平板显示器的制造工艺以及FPD曝光装置

FPD曝光装置

FPD曝光装置可将电路图投射到玻璃基板的表面,以控制每个像素。尼康提供多套系统广泛应用于从采用独特的多镜头系统的大型面板到采用智能设备的小型和中型面板生产的整个领域。通过不断的技术开发,在FPD曝光系统领域尼康拥有很高的市场占有率。

半导体的制造工艺和半导体曝光装置

半导体曝光装置

半导体曝光装置可缩小电路图形尺寸,并将其投射到晶片上。对于集成电路芯片生产起到关键作用的此类曝光系统具备低至纳米(十亿分之一米)的高精度,该系统也被公认为是迄今为止格外精密的设备。

产品介绍

FPD扫描式曝光机 FX-103SH

此设备运用可提升解析度的独特照明系统和多镜头投影光学技术,为第10.5代玻璃基板的制造而优化。适用于高精度大屏幕面板的生产,对4K/8K分辨率电视,以及高精度平板液晶显示面板、有机EL面板的大规模生产作出了贡献。

FPD扫描式曝光机 FX-68S

FX-68S支持使用第六代基板制造、高分辨率、中型和小型面板。该扫描方法不仅提高了产能,同时还可提供高分辨率(1.5μm)和高精度校准。

ArF液浸扫描式曝光机 NSR-S631E

这是一款为了满足7nm工艺节点量产而开发(可对应多重曝光技术),并采用了Streamline平台技术的ArF液浸式光刻机。该光刻机可达到2.3nm以下的设备间重合精度(MMO :Mix-and-Match Overlay) 和270片/每小时以上高吞吐量(96 Shot/ wafer)。这样的高精度和高生产性,可以对先进生产线的安定量产做出贡献。